【半導體微影製程光學】半導體微影技術光學培訓班

上課地址:工研院光復院區1館(詳細地點請以上課通知為準)

時數:12

起迄日期:2021-03-02~2021-03-03

聯絡資訊:王丕華/03-5732774

報名截止日:2021-02-23

課程類別:人才培訓(課程)

活動代碼:2320120126

課程介紹

       半導體製程分為前期製程(主要是對晶圓狀態的各種工藝生產)和後期製程(主要是對切割後的晶圓進行晶片加工),前期製程的難度遠在後期製程之上,而光刻機是半導體前期製程中價格最昂貴的設備,光刻機所運用的半導體微影製程是半導體產業的核心技術。本課程將講授半導體微影技術所運用的精密光學,歡迎想投入半導體產業及精密光學設計職務的工程師參與培訓。

課程目標

瞭解半導體微影技術所運用的精密光學,如何控制微影製程成像品質。

課程對象

半導體產業及精密光學產業之技術研發人員、業務推廣人員或企業主管。

課程大綱

狹縫繞射理論
密集黒白線條(光柵)繞射
基礎成像理論-Resolution
基礎成像理論- DOF焦深
光源的同調性-時間相干 
光源的同調性-空間相干
像差的意義與圖像-Seidel Aberrations
光源色差校正的要求
離焦的意義與圖像
科爾照明-均勻照明的光路安排
偏振光特性的應用
浸潤式光刻機特性
成像品質討論
(參考教材:Fundamental principle of Optical Lithography)

講師簡介

林世穆 講師
現職:
瑞光科技顧問有限公司 資深顧問
學歷:
英國雷丁大學 物理系應用光學組博士
英國倫敦大學 帝國理工學院物理系應用光學組碩士
經歷:
國立台北科技大學光電工程系專任副教授
專長:
光學鏡頭設計、光學系統設計、ZEMAX教學

課程資訊

主辦單位:工研院產業學院
舉辦日期:110年3月2~3日(二三),上午9:00~12:00、下午13:00~16:00,共12小時
舉辦地點:工研院光復院區1館(詳細地點請以上課通知為準)
課程費用:(含稅、午餐、講義)
■ 每人 10,500元
■ 110/2/16(含)前報名享優惠價,每人 9,500元
■ 同公司2人(含)團報優惠價,每人 9,500元
■ 工研人享優惠價 9,500元

報名方式

1.線上報名 : 點選課程頁面上方之「線上報名」按鈕,填寫報名資訊即可。亦可直接點選報名網址:https://wlsms.itri.org.tw/ClientSignUp/Index.aspx?ActGUID=77F59C5DF6
2.傳真報名 : 請將報名表傳真至(03)5750690 黃小姐(傳真後請來電確認,以保障報名權益)
3.電郵報名 : 洽黃小姐(03-5732034;E-mail:Email住址會使用灌水程式保護機制。你需要啟動Javascript才能觀看它)、王先生(03-5732774;E-mail:Email住址會使用灌水程式保護機制。你需要啟動Javascript才能觀看它)
註:報名後待確定開課時,課務人員會再通知學員進行繳款及提供課程詳細地點等課務資訊。

注意事項

■ 為確保您的上課權益,報名後若未收到任何回覆,敬請來電洽詢方完成報名。
■ 若您不克前來,請於開課三日前告知,以利行政作業進行。
■ 若原報名者因故不克參加,但欲更換他人參加,敬請於開課前二日通知。
■ 學員於開訓前退訓者,將依其申請退還所繳上課費用90%,另於培訓期間若因個人因素無法繼續參與課程,將依上課未逾總時數1/3,退還所繳上課費用之50%,上課逾總時數1/3,則不退費。
■ 為尊重講師之智慧財產權,恕無法提供課程講義電子檔。

附件

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