【半導體微影製程光學】半導體光學微影技術核心課程

上課地址:工研院光復院區1館(詳細地點請以上課通知為準)

時數:6

起迄日期:2021-05-06~2021-05-06

聯絡資訊:陳小姐/03-5732407

報名截止日:2021-04-30

課程類別:人才培訓(課程)

活動代碼:2321010057

課程介紹

       台灣半導體產業是科技產業的核心,持續需要優秀科技人才投身此高科技產業。半導體製程的核心是光學微影技術,光學微影技術的核心是光學原理的應用。半導體製程中要將晶片上的電路更縮小化,就需要更短波長的雷射光源,或是使用浸潤式光學微影製程等方式,以便在光刻製程中,用雷射光刻出間距更小的電路圖。光線的波長決定了焦點的尺寸,也就決定了電路的線距。現今半導體製程往7奈米以下邁進,便需要用更短的波長製作更精細、密度更高的電路,從而構建更快、更節能的晶片。
       本課程採用台積電資深副總林本堅(Burn Lin)博士的經典著作,“Optical Lithography-Here Is Why”為參考教材,講授半導體光學微影技術的光學原理的應用,協助半導體產業研發及專案管理人員了解光刻機的核心技術,同時歡迎電機、機械、光電等產業在職人士參與本課程,增加跨領域學習機會。

課程目標

瞭解光刻機的核心技術-半導體光學微影技術的光學原理的應用。

課程對象

半導體產業技術研發人員、專案管理人員或研發主管。

課程大綱

●光刻機技術發展歷程
●光刻機重要的指標參數
●繞射極限的物理意義
●解像能力與焦深的選擇
●空間頻率的概念
●光源同調性的影響

講師簡介

林世穆 講師
現職:
瑞光科技顧問有限公司 資深顧問
學歷:
英國雷丁大學 物理系應用光學組博士
英國倫敦大學 帝國理工學院物理系應用光學組碩士
經歷:
國立台北科技大學光電工程系專任副教授
專長:
光學鏡頭設計、光學系統設計、ZEMAX教學

課程資訊

主辦單位:工研院產業學院
舉辦日期:110年5月6日(四),上午9:00~12:00、下午13:00~16:00,共6小時
舉辦地點:工研院光復院區1館(詳細地點請以上課通知為準)
課程費用:(含稅、午餐、講義)
■ 每人 5,200元
■ 110/4/22(含)前報名享優惠價,每人 4,700元
■ 同公司2人(含)團報優惠價,每人 4,700
■ 工研人享優惠價 4,700

報名方式

1.線上報名 : 點選課程頁面上方之「線上報名」按鈕,填寫報名資訊即可。
2.傳真報名 : 請將報名表傳真至(03)5750690 黃小姐(傳真後請來電確認,以保障報名權益)
3.電郵報名 : 洽黃小姐(03-5732034;E-mail:Email住址會使用灌水程式保護機制。你需要啟動Javascript才能觀看它)、王先生(03-5732774;E-mail:Email住址會使用灌水程式保護機制。你需要啟動Javascript才能觀看它)
註:報名後待確定開課時,課務人員會再通知學員進行繳款及提供課程詳細地點等課務資訊。

注意事項

■ 為確保您的上課權益,報名後若未收到任何回覆,敬請來電洽詢方完成報名。
■ 若您不克前來,請於開課三日前告知,以利行政作業進行。
■ 若原報名者因故不克參加,但欲更換他人參加,敬請於開課前二日通知。
■ 學員於開訓前退訓者,將依其申請退還所繳上課費用90%,另於培訓期間若因個人因素無法繼續參與課程,將依上課未逾總時數1/3,退還所繳上課費用之50%,上課逾總時數1/3,則不退費。
■ 為尊重講師之智慧財產權,恕無法提供課程講義電子檔。

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