近年來,隨著資料分析需求激增,磁阻式隨機存取記憶體(MRAM)作為下一代最受期待的記憶體技術。工研院機械所成功運用「高功率微波模組」對MRAM的MTJ(磁穿隧接面)結構進行低溫退火製程,不僅避免了傳統高溫製程可能導致的材料氧化和界面損壞問題,更提升了元件性能、降低製造成本,是低碳科技的里程碑。



近年來,隨著資料分析需求激增,磁阻式隨機存取記憶體(MRAM)作為下一代最受期待的記憶體技術。工研院機械所成功運用「高功率微波模組」對MRAM的MTJ(磁穿隧接面)結構進行低溫退火製程,不僅避免了傳統高溫製程可能導致的材料氧化和界面損壞問題,更提升了元件性能、降低製造成本,是低碳科技的里程碑。


機械工業雜誌6月號「機械淨零碳排技術專輯」,邀請工研院機械所鄭詠仁組長與邱凡芸研究員為您詳細介紹「MRAM MTJ結構進行微波退火的優勢」,千萬記得鎖定!


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