「常壓微能量束奈米級面形修整技術」，相較於傳統修整方式，這項技術大幅縮短加工時間，並能減少人工作業，提升精度與再現性，特別適合應用於高解析度光學模組、半導體關鍵零組件與次世代成像元件。
在製造光學元件時，傳統的拋光方法因為設備簡單、操作成熟，一直被廣泛使用。但一但遇到非球面或自由曲面的透鏡時，就發生很難把形狀修得精準，最後必須多一道工靠機械或人工再做局部修整，為了解決這個問題，研發團隊找出新解方。
本期「半導體與光電產業設備技術專輯」，由工研院黃萌祺組長、劉展羽副研究員分享「常壓微能量束奈米級面形修整技術」，相較於傳統修整方式，這項技術大幅縮短加工時間，並能減少人工作業，提升精度與再現性，特別適合應用於高解析度光學模組、半導體關鍵零組件與次世代成像元件。
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