課程代號:2326040069  

高階半導體黃光製程實戰班

學員在完成兩天訓練後,將具備以下實戰能力: 1.掌握進階成像物理與參數優化:深入理解光阻行為與曝光機(Scanner)底層架構,具備獨立執行曝光量與焦距矩陣(Dose/Focus Matrix)分析及臨界尺寸偏移(CD Shift)異常控制能力。 2.建構跨模組整合思維:明白圖形轉移鏈(Pattern Transfer Chain)中的複雜連動,掌握化學機械平坦化(CMP)地形、薄膜折射率與蝕刻輪廓(Profile)對黃光的影響,強化跨部門溝通籌碼。 3.建立系統化故障排除(Debug)與良率分析邏輯:熟練判讀臨界尺寸與疊對晶圓圖譜(CD/Overlay Map),並能運用實驗設計(DoE)與晶圓接受度測試(WAT)數據進行精準的根本原因(Root Cause)追溯。 4.導入車用規格級高階解題框架:學會運用福特 8D(Ford 8D)與車用規格 3-Leg 5-Why 手法,系統化改善重工率(Rework rate)與每小時產出晶圓數(WPH)等核心關鍵績效指標(KPI)。 5.打通晶片設計與製造的跨界視野:透過資深演算法專家精華解說,徹底了解晶片開發流程,明白前端設計如何影響後端製造,提升全端技術宏觀視角。

課程型態/
實體課程
上課地址/
中興院區51館-2C會議室(實際地點依上課通知為準)
時  數/
12 小時
起迄日期/
2026/08/29 ~ 2026/08/30
聯絡資訊/
萬仁竣   03-5743996
報名截止日期:2026/08/21
課程簡介

~晶圓廠實戰 × IC 設計視野,掌握參數優化與良率關鍵~

隨著半導體製程持續朝向高密度與高精度發展,黃光製程已直接牽動臨界尺寸(CD)、疊對精度(Overlay)與最終良率表現。然而,教科書上的光學理論無法解決量產環境的複雜變因;而在晶圓廠內埋頭苦幹,往往也無法理解前端設計規範(Design Rule)背後真正的設計考量。

本課程為期兩天共 12 小時,是一場為高階製程人才量身打造的跨界實戰訓練:

【製程與整合實戰】 由具備15年晶圓廠第一線實戰經驗的資深專家授課。帶您深入解析成像物理、曝光參數最佳化與先進圖形化(Patterning)技術(包含光學臨近效應修正 OPC、極紫外光 EUV)。並將視角拉高,探討前段化學機械平坦化(CMP)地形、薄膜疊層(Film Stack)與後段蝕刻微負載效應(Microloading)對黃光製程的交互影響,導入車用規格級 3-Leg 5-Why 系統化分析手法,助您精準解決關鍵績效指標(KPI)與良率異常。

【晶片開發全局觀】 課程特別邀請具備多年頂尖積體電路(IC)設計大廠經驗的資深演算法工程師,進行3小時的「晶片開發流程」深度剖析。協助製程工程師跳脫無塵室思維,從晶片設計者的角度看見光罩圖形背後的產品邏輯,真正做到「知其然,更知其所以然」。

這門課將協助您從「看懂現象」的單站操作者,蛻變為具備「跨模組整合力」與「晶片設計宏觀視野」的製程解決方案專家。

課程目標

學員在完成兩天訓練後,將具備以下實戰能力:

  1. 掌握進階成像物理與參數優化:深入理解光阻行為與曝光機(Scanner)底層架構,具備獨立執行曝光量與焦距矩陣(Dose/Focus Matrix)分析及臨界尺寸偏移(CD Shift)異常控制能力。

  2. 建構跨模組整合思維:明白圖形轉移鏈(Pattern Transfer Chain)中的複雜連動,掌握化學機械平坦化(CMP)地形、薄膜折射率與蝕刻輪廓(Profile)對黃光的影響,強化跨部門溝通籌碼。

  3. 建立系統化故障排除(Debug)與良率分析邏輯:熟練判讀臨界尺寸與疊對晶圓圖譜(CD/Overlay Map),並能運用實驗設計(DoE)與晶圓接受度測試(WAT)數據進行精準的根本原因(Root Cause)追溯。

  4. 導入車用規格級高階解題框架:學會運用福特 8DFord 8D)與車用規格 3-Leg 5-Why 手法,系統化改善重工率(Rework rate)與每小時產出晶圓數(WPH)等核心關鍵績效指標(KPI)。

  5. 打通晶片設計與製造的跨界視野:透過資深演算法專家精華解說,徹底了解晶片開發流程,明白前端設計如何影響後端製造,提升全端技術宏觀視角。

課程特色

  1. 聚焦量產實務,還原真實晶圓廠場景:課程內容摒棄純學術推導,以晶圓廠實際生產經驗為核心,從現場常見的臨界尺寸偏移(CD Shift)、疊對(Overlay)偏差、圖形倒塌(Pattern Collapse)、重工率(Rework Rate)與每小時產出晶圓數(WPH)等議題切入,協助學員理解製程理論如何真正落地到量產改善。

  2. 鎖定進階工程師需求,突破既有經驗框架:本課程非入門概論,而是專為具備年以上相關經驗之製程工程師量身打造。內容涵蓋曝光機(Scanner)參數敏感度分析、跨模組交互影響、先進圖形化(Patterning)技術與異常故障排除(Debug)方法,協助學員突破單站操作盲點。

  3. 獨家「設計 × 整合 × 黃光」跨維度關聯剖析:從黃光延伸至薄膜、蝕刻、化學機械平坦化(CMP),更重磅加入積體電路(IC)設計開發流程視角。協助學員建立完整的製程整合觀念,不再只從單一站點看問題,而能從上游(Upstream)的晶片設計端到下游(Downstream)的製程端互動關係,進行全局系統性判斷。

  4. 結合理論、案例與頂級車規解題框架:除技術原理解析外,亦納入臨界尺寸與疊對晶圓圖譜(CD/Overlay Map)判讀、實驗設計(DoE)規劃、實驗分組(Split)分析。更獨家引入福特 8DFord 8D)及車用晶片(Automotive IC3-Leg 5-Why 問題分析手法,讓學員能將所學直接運用於現場異常排除(Trouble-shooting)與持續改善。

  5. 涵蓋先進製程與最前沿技術趨勢:課程納入光學臨近效應修正(OPC)、次解析度輔助圖形(SRAF)、反向微影技術(ILT)、極紫外光(EUV)光罩 3D 效應、多重曝光,以及線邊緣粗糙度與線寬粗糙度(LER/LWR)控制等重點主題。使學員面對未來製程微縮與高規格應用需求時,具備更完整的技術視野與判斷能力。

  6. KPI 管理到根本原因(Root Cause)分析一次串接:不僅教學員看懂製程數據,更進一步引導如何從關鍵績效指標(KPI)異常、量測結果、設備參數與模組互動中找出問題根本原因(Root Cause),建立具邏輯性且可落地的改善思維。

課程對象

本課程專為已具備晶圓廠實際生產經驗,面臨技術瓶頸或準備晉升、負責更複雜製程整合的工程師量身打造。建議具備至少年以上 半導體廠內黃光製程(Litho PE)、良率整合(YE/PI)或相關設備工程(EE)工作經驗,課程適合參與對象如下:

  • 黃光製程工程師(Litho PE): 期望深化技術理解、提升解決異常問題(Issue)速度,或準備接手先進製程開發者。

  • 製程整合與良率工程師(PI / YE): 需要跨模組抓出瑕疵(Bug)、判讀缺陷特徵,亟需了解晶片設計端需求以強化跨部門協調能力者。

  • 資深設備工程師(Litho EE): 熟悉機台硬體,希望補足製程原理與良率分析思維,為專業轉型做準備者。

  • 前端佈局與產品工程人員(Layout / PDE): 欲了解積體電路(IC)設計開發流程如何與後端實際製造的先進圖形化(Patterning)物理限制相互妥協與搭配者。

講師簡介

陳講師

台灣知名半導體廠 黃光工程部 主任工程師

經歷:半導體黃光工程15年資歷

專長:半導體黃光製程/薄膜工程/問題解決與分析

 

洪講師

臺灣知名 IC 設計公司 演算法工程師

經歷:演算法開發相關資歷 14 

專長:機器學習、AI 與訊號處理演算法開發

課程資訊

  • 課程地點:工研院中興院區512C會議室 (新竹縣竹東鎮中興路四段195)實際地點以上課通知單為主!!

  • 課程日期:115829(週六30(週日),共計二天12小時

  • 課程時間:09:30-16:30

  • 報名方式:線上報名

  • 課程費用 
    原價:每人$10,800元整
    早鳥優惠價:開課前21天報名 每人$9,750元整
    團體報名價:同單位3(含以上每人$9,200元整

  • 聯絡資訊:
    廖小姐03-5732859 (課程行政或庶務問題窗口)
    萬先生03-5743996 (課程內涵或技術問題窗口)

課程大綱

課程日期

課程單元

課程大綱

第一天

8/29()

單元一、黃光製程進階介紹
  1. 成像物理模型:NAk1、焦深(DoF)與 

  2. 光阻材料行為:酸擴散、底反射、swing effect

  3. Patterning 誤差來源(DoseFocusOverlayFilm Stack

  4. 臨界尺寸偏移(CD Shift)成因與控制

單元二、曝光設備關鍵模組與參數優化
  1. Scanner / Stepper 深度架構(光源、照明、reticle heating

  2. 參數敏感度分析(DoseFocus Matrix、照明參數、像差)

  3. 曝光機參數:alignment Leveling resultMark  進化

  4. PHOTO process optimal FEM/overlay matrix /象限

單元三、先進 Patterning 與最新趨勢
  1. OPC / SRAF / ILT 基礎

  2. EUV Mask 3D 效應與 pattern collapse 機制

  3. 多重曝光技術(LELESAQP)與製程限制

  4. 高頻 pattern  LER / LWR 控制策略

第二天

8/30()

單元四、跨模組製程整合:黃光 × 薄膜 × 蝕刻 × CMP
  1. Pattern transfer chain:薄膜折射率、topography  CD/Overlay 的影響

  2. CMP 地形(dishing/erosion)導致對準偏差的補償策略

  3. 蝕刻後 profile 與曝光參數的交互影響(microloadingRIE lag

  4. 整合案例解析:swing  CD failfilm stack  pattern collapse

單元五、黃光區良率改善與異常 Debug 實務
  1. 異常分類架構(DoseFocusOverlayMaskIllumination

  2. CD/Overlay Map 判讀方法與 Debug 流程

  3. DoE(實驗設計)規劃與 Split 結果解析 

  4. WAT 簡介

單元六、黃光KPI問題解決與分析
  1. 黃光區Kpi rework rate/WPH/改善手法

  2. Ford 8D 問題解決手法

  3. AUTO motive 車用IC 廠商 3 leg 5 why 問題解決手法

單元七、晶片設計流程

晶片開發流程

繳費方式

  • 本課程繳費方式提供 ATM 轉帳、信用卡 及 銀行匯款(由公司電匯) 三種,恕無法受理現場報名與現金繳費。
  • 各繳費方式可於收到「繳費通知」後,再進行付款。
  • 繳費方式選擇建議
  1. 個人報名學員:建議使用「信用卡」繳費,操作便利,且若取消,退款作業通常可於 約兩週內完成。
  2. 公司或團體統一付款:請選擇「銀行匯款(由公司電匯)」。
  3. 個人報名且不使用信用卡者:可選擇「ATM 轉帳」。

 

ATM轉帳(僅限個人報名):

選擇「ATM 轉帳」繳費者,系統將自動產生一組專屬於本次課程與本位學員的虛擬帳號(含銀行代號及轉帳帳號)。

請務必依該帳號所顯示之金額全額匯款,金額若有任何差異,將無法完成轉帳。

※ 本繳費方式僅限個人報名使用,團體報名請改採「銀行匯款」。

完成轉帳後,請提供以下任一資訊以利對帳:

  • 匯款日期與帳號後五碼,或
  • 匯款完成之交易截圖,

並以 E-mail 回覆至承辦人信箱即可,無須另行填寫其他資料。

 

信用卡(個人報名建議使用):

請於收到「確認開課通知」後,再行刷卡繳費即可;若提前刷卡,款項將先完成扣款並保留於系統中,若課程費用金額偏高,請學員自行評估後再操作。

刷卡操作方式:

  1. 請至您收到的「報名確認通知」信件中,查找「付款方式修改網址:報名資料網址」之文字連結。
  2. 點擊「報名資料網址」後,輸入報名時填寫的 E-mail 與驗證碼,即可進入付款頁面。
  3. 進入頁面後,請留意畫面中之信用卡付款選項(位置較不顯眼),依指示輸入信用卡資料完成刷卡。
  4. 畫面顯示「您已完成報名手續」後,始表示繳費完成。

※ 若無法找到刷卡付款選項,請直接來信洽詢承辦人協助。

 

銀行匯款(由公司電匯):

本繳費方式適用於公司或團體由聯絡人統一付款。

主辦單位將於「確認開課」後,將另行通知工研院匯款帳號,請依通知內容完成匯款。

完成匯款後,請提供以下資訊以利對帳:

  • 匯款日期與帳號後五碼,或
  • 匯款完成之交易截圖,

並以 E-mail 回覆承辦人即可。

 

退款作業說明(請留意)

  • 信用卡退款:若取消,退款作業通常可於 約兩週內完成。
  • 銀行匯款/ATM 轉帳退款:因本院行政流程較為繁複,退款作業約需 2 個月,並須另行填寫退款申請表單。

造成不便,敬請見諒!

注意事項

※ 本注意事項請於報名前詳閱,報名完成即視為同意相關規定。

一、報名確認通知

  • 學員完成線上報名並送出成功後,系統通常會立即寄發「報名確認通知」信件至您填寫的 E-mail。
  • 若未於短時間內收到通知信,請先檢查垃圾郵件匣或公司信件阻擋設定;如仍未收到,請來信提供「課程名稱、姓名與聯絡電話」,以利協助查詢。

二、開課確認與後續通知

  • 當報名人數達最低開辦人數時,主辦單位將先進行出席意願調查。
  • 待確認實際出席之學員人數亦符合開辦條件後,將寄發正式「開課確認通知」信,內容包含:上課時間與地點、繳費方式與期限、飲食葷素回報、車輛入院及停車相關資訊。
  • 本課程所公告之課程日期為預計辦理日期,實際是否開課,須視報名及確認出席人數而定,並以主辦單位寄發之「開課確認通知」信為準。
  • 在收到正式開課確認通知前,請勿據以安排不可更動之個人重要行程,如:出國旅遊、已預訂之機票或住宿、需本人出席之出差或重要會議、國家或專業證照考試等,以免因課程延期或異動影響您的行程規劃。

三、繳費時點說明

  • 各繳費方式(ATM 轉帳/信用卡/銀行匯款)皆請於收到「開課確認通知」後,再行繳費。
  • 請勿於尚未收到開課確認前提前付款,以免影響後續退款與行政作業。

四、學員更換(名額轉讓)

  • 如學員因故不克出席,可於開課前通知主辦單位指派他人替代上課。
  • 請提供替代學員之必要基本資料,以利更新名冊與後續行政作業。

五、退費規定

  • 於開課前通知取消者,將辦理全額退費。
  • 課程開始後,恕不受理退費申請,說明如下:

1.已參與部分課程者:於培訓期間,若因個人因素無法繼續參與課程,恕不退費,亦無法取得受訓證明。

2.未參與課程且課程當日無法取得聯繫者:視同放棄上課權益,將僅依報名時所留通訊地址郵寄課程講義,恕不退費。

  • 如需取消報名,請務必以 E-mail 通知主辦單位,恕不受理電話取消。取消申請之受理時間與認定,將以 E-mail 寄達時間為準。

六、課程教材與智慧財產權

  • 本課程不提供講義電子檔,教材以課堂使用為主。
  • 課程內容、講義及投影片之著作權屬講師或主辦單位所有,未經同意,不得錄音、錄影、翻拍或散布。

七、課程異動

  • 主辦單位保留因實際需求、講師行程或不可抗力因素,調整課程日期、上課方式或更換講師之權利。
  • 如有異動,將提前通知學員,並依實際情況提供改期、轉班或退費等配套處理。